Термичка обрада челика — разлика између измена

Код овог поступка тврди слој настаје реакцијом гасова на површини челика, који се ојачава при релативно високим температурама (1000º-{C}-). Такође се могу формирати слојеви чистих метала ([[молибден]], [[никал]]), једињења ([[карбидкарбиди]]и [[титан]]а, [[волфам]]а, [[силицијум]]а, нитриди [[титан]]а, [[бор]]а, оксид [[алуминијум]]а и др.) Кретање честица у комори није усмерено тако да се формира равномерни слој без потреба предузимања посебних мера. При рекцији хемијског таложења настају споредни продукти хемијске реакције који се морају уклањати из коморе. Као пример за ЦВД поступак може да послужи издвајање и таложење карбонитрида титана из смеше хлорида титана, [[метан]]а и [[азот]]а: